XRF-analysaattorin tarkkuuden ja näytteenottotaajuuden vaikutus säädön hyvyyteen vaahdotusprosessissa

Thumbnail Image

URL

Journal Title

Journal ISSN

Volume Title

Helsinki University of Technology | Master's thesis
Checking the digitized thesis and permission for publishing
Instructions for the author
Location:
P1 Ark TKK

Authors

Date

2001

Department

Kemian tekniikan osasto

Major/Subject

Prosessien ohjaus ja hallinta

Mcode

Kem-90

Degree programme

Language

fi

Pages

xii + 127 s. + liitt.

Series

Description

Supervisor

Jämsä-Jounela, Sirkka-Liisa

Thesis advisor

Kongas, Matti
Saloheimo, Kari

Keywords

measurement accuracy, mittaustarkkuus, sampling frequency, näytteenottotaajuus, XRF analysis, XRF-analyysi, flotation process, vaahdotusprosessi

Other note

Citation

Permanent link to this item

https://urn.fi/URN:NBN:fi:aalto-2020120448204

Collections

[dipl] Teknillinen korkeakoulu / TKK