XRF-analysaattorin tarkkuuden ja näytteenottotaajuuden vaikutus säädön hyvyyteen vaahdotusprosessissa
No Thumbnail Available
URL
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Helsinki University of Technology |
Diplomityö
Checking the digitized thesis and permission for publishing
Instructions for the author
Instructions for the author
Authors
Date
2001
Department
Major/Subject
Prosessien ohjaus ja hallinta
Mcode
Kem-90
Degree programme
Language
fi
Pages
xii + 127 s. + liitt.
Series
Description
Supervisor
Jämsä-Jounela, Sirkka-LiisaThesis advisor
Kongas, MattiSaloheimo, Kari
Keywords
measurement accuracy, mittaustarkkuus, sampling frequency, näytteenottotaajuus, XRF analysis, XRF-analyysi, flotation process, vaahdotusprosessi