Optimization of two-level deep reactive ion etching process

dc.contributorAalto-yliopistofi
dc.contributorAalto Universityen
dc.contributor.advisorSavolainen, Kari
dc.contributor.authorReini, Vesa
dc.contributor.departmentKemian ja materiaalitieteiden tiedekuntafi
dc.contributor.schoolKemian tekniikan korkeakoulufi
dc.contributor.schoolSchool of Chemical Engineeringen
dc.contributor.supervisorPaulasto-Kröckel, Mervi
dc.date.accessioned2020-12-23T13:18:39Z
dc.date.available2020-12-23T13:18:39Z
dc.date.issued2010
dc.format.extentviii + 84 + [9]
dc.identifier.urihttps://aaltodoc.aalto.fi/handle/123456789/99137
dc.identifier.urnURN:NBN:fi:aalto-2020122357964
dc.language.isofien
dc.programme.majorElektroniikan valmistustekniikkafi
dc.programme.mcodeS-113fi
dc.rights.accesslevelclosedAccess
dc.subject.keywordDRIEen
dc.subject.keywordDRIEfi
dc.subject.keyword2-level maskingen
dc.subject.keywordtuplamaskausfi
dc.subject.keywordSi residualen
dc.subject.keywordpiijäämäfi
dc.subject.keywordBosch processen
dc.subject.keywordBosch-prosessifi
dc.titleOptimization of two-level deep reactive ion etching processen
dc.titleReaktiivisen ionisyväetsauksen tuplamaskausprosessin optimointifi
dc.type.okmG2 Pro gradu, diplomityö
dc.type.ontasotMaster's thesisen
dc.type.ontasotPro gradu -tutkielmafi
dc.type.publicationmasterThesis
local.aalto.digiauthask
local.aalto.digifolderAalto_04607
local.aalto.idinssi47441
local.aalto.openaccessno
Files