Atomic layer deposition growth of epitaxial zinc oxide

dc.contributorAalto-yliopistofi
dc.contributorAalto Universityen
dc.contributor.advisorSuihkonen, Sami
dc.contributor.authorSärkijärvi, Suvi
dc.contributor.schoolSchool of Electrical Engineeringen
dc.contributor.schoolSähkötekniikan korkeakoulufi
dc.contributor.supervisorLipsanen, Harri
dc.date.accessioned2014-09-25T08:03:46Z
dc.date.available2014-09-25T08:03:46Z
dc.date.issued2014
dc.description.abstractIn this work the basic characteristics of ZnO, atomic layer deposition (ALD) and epitaxial ZnO growth by ALD are presented, followed by the experimental results of the epitaxial growth of ZnO on GaN template by ALD. Diethylzinc (DEZn) and water vapour (H2O) were used as precursors. The structure and the quality of the grown ZnO layers were studied with scanning electron microscope (SEM), atomic force microscope (AFM), X-ray diffraction (XRD), photoluminescence (PL) measurements and positron annihilation spectroscopy. The ZnO fims were confrmed epitaxial, and the film quality was found to improve with increasing deposition temperature in the vicinity of the threshold temperature of two dimensional growth. Contrary to previous reports, high-temperature annealing did not enhance the film properties but rather damaged the film. We conclude that high quality ZnO thin films can be grown by ALD. Interestingly only separate Zn-vacancies were observed in the films, although ZnO thin films typically contain fairly high density of surface pits and vacancy clusters.en
dc.description.abstractTässä työssä esitetään sinkkioksidin (ZnO), atomikerrosdeposition (ALD) sekä ALD-menetelmällä valmistetun epitaktisen sinkkioksidin perusominaisuukset. Lisäksi raportoidaan ALD-menetelmällä GaN-alustan päälle valmistettujen ZnO-kalvojen epitaktisuudesta. Lähtöaineina käytettiin dietyylisinkkiä (DEZn) ja vesihöyryä (H2O). ZnO kalvojen rakennetta ja laatua tutkittiin elektronisuihkumikroskoopilla (SEM), atomivoimamikroskoopilla (AFM), röntgendiffraktiolla (XRD), fotoluminesenssimittauksilla (PL) ja positroniannihilaatiospektroskopialla. ZnO-kalvojen todettiin olevan rakenteeltaan epitaktisia ja kalvon laadun parantuvan valmistuslämpötilaa nostettassa kaksiulotteisen kasvun kynnyslämpötilan ympäristössä. Vastoin edellisiä raportteja lämpökasittely ei parantanut kalvojen laatua, vaan tuhosi kalvot. Johtopäätöksenä toteamme, että korkealaatuisia ZnO-ohutkalvoja voidaan valmistaa ALD-menetelmällä. Vastoin odotuksia kalvoissa havaittiin vain yksittäisiä sinkkivakansseja, vaikka ZnO-kalvot sisältävät tyypillisesti suurehkoja määriä kuoppia ja vakanssiryppäitä.fi
dc.format.extent79
dc.format.mimetypeapplication/pdfen
dc.identifier.urihttps://aaltodoc.aalto.fi/handle/123456789/14039
dc.identifier.urnURN:NBN:fi:aalto-201409252668
dc.language.isoenen
dc.programme.majorMicro- and nanotechnologyen
dc.programme.mcodeS104Z
dc.publisherAalto Universityen
dc.publisherAalto-yliopistofi
dc.rights.accesslevelopenAccess
dc.subject.keywordatomic layer depositionen
dc.subject.keywordALDen
dc.subject.keywordepitaxial ZnOen
dc.subject.keywordatomikerrosdepositiofi
dc.subject.keywordALDfi
dc.subject.keywordepitaktinen ZnOfi
dc.subject.otherPhysicsen
dc.titleAtomic layer deposition growth of epitaxial zinc oxideen
dc.titleEpitaktisen sinkkioksidin valmistus atomikerrosdepositiomenetelm all afi
dc.typeG3 Lisensiaatintutkimusfi
dc.type.dcmitypetexten
dc.type.ontasotLicentiate thesisen
dc.type.ontasotLisensiaatintyöfi
local.aalto.digifolderAalto_06610
local.aalto.idinssi49824
local.aalto.openaccessyes

Files