Optoelektroniikassa käytettävien sulfidiohutkalvojen valmistus ja karakterisointi

Simple item page
dc.contributorAalto-yliopistofi
dc.contributorAalto Universityen
dc.contributor.authorHeikkinen, Hannele
dc.contributor.departmentKemian tekniikan osastofi
dc.contributor.schoolTeknillinen korkeakoulufi
dc.contributor.schoolHelsinki University of Technologyen
dc.contributor.supervisorNiinistö, Lauri 
dc.date.accessioned2021-04-14T18:39:30Z
dc.date.available2021-04-14T18:39:30Z
dc.date.issued1999 
dc.format.extentviii + 55 s. + liitt. 
dc.identifier.urihttps://aaltodoc.aalto.fi/handle/123456789/105947
dc.identifier.urnURN:NBN:fi:aalto-202104145237
dc.language.isofien
dc.programme.majorEpäorgaaninen kemiafi
dc.programme.mcodeKem-35fi
dc.rights.accesslevelclosedAccess
dc.titleOptoelektroniikassa käytettävien sulfidiohutkalvojen valmistus ja karakterisointifi
dc.titleDeposition and characterization of sulfide films used in optoelectronicsen
dc.type.okmG3 Lisensiaatintutkimus 
dc.type.ontasotLicentiate thesisen
dc.type.ontasotLisensiaatintyöfi
local.aalto.digiauthask
local.aalto.digifolderAalto_14175
local.aalto.idinssi14922
local.aalto.openaccessno
Files
Collections
[lic] Teknillinen korkeakoulu / TKK