Surface Functionalization by Atomic Layer Deposited Binary Oxide Thin Films

Loading...
Thumbnail Image
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
School of Chemical Technology | Doctoral thesis (article-based) | Defence date: 2013-05-03
Checking the digitized thesis and permission for publishing
Instructions for the author
Date
2013
Major/Subject
Mcode
Degree programme
Language
en
Pages
41 + app. 37
Series
Aalto University publication series DOCTORAL DISSERTATIONS, 57/2013
Abstract
The materials of today have intriguing properties. The mastering of phenomena at the nanometer range often forms the basis for the understanding of novel materials and their functional properties. In this thesis three materials - zinc oxide (ZnO), titanium dioxide (TiO2) and tungsten trioxide (WO3) - in the form of thin films less than 100 nanometers in thickness are being studied from the surface functionalization point of view. The film application method used was atomic layer deposition (ALD). First, the low-temperature deposition features of ZnO were studied. The deposition could be performed at as low as room temperature. Below 70 ºC the hexagonal wurzite structure of ZnO oriented along the c axis, and above this temperature orientation along the a axis was also observed. The crystallinity improved in post-deposition annealings at 400–600 ºC in argon and oxygen atmospheres while keeping the original preferential orientation unchanged. ZnO was also used to study the tailoring of a natural template, the wing surface of the cicada (Pomponia Intermedia) insect. The nanoscale pillar structure of the cicada wing could be area-selectively coated with a 100 nm thick ZnO film in the interstitial space between the pillars. By applying a thin aluminum oxide seed layer prior to ZnO deposition the wing nanostructure could be uniformly coated. Furthermore, the water wettability of the cicada wing was studied. The originally superhydrophobic wing surface was coated with ZnO while keeping the original superhydrophobicity almost intact. When exposed to ultraviolet (UV) light the surface was successfully turned hydrophilic and back to hydrophobic under storage in dark. The tunable wettability phenomenon was used to demonstrate directing fluid flows on planar, ZnO-coated quartz surfaces utilizing hydrophilic patterns irradiated on a hydrophobic surface by UV laser. The reversible patterning may find use in microfluidic and lab-on-a-chip devices. TiO2 is a common ALD film material capable of being deposited at low temperatures. Here its possibilities were demonstrated by depositing a TiO2 layer on nanofibrillated cellulose (NFC) template, and after removal of the template using the formed TiO2 nanotube network in a dropcast form as a humidity sensor. The usable relative humidity range was 40–80 % where the dropcast sensor layer gave repeatable resistive and capacitive response. Finally a new ALD process of WO3 films from W(CO)6 and O3 was introduced. The ALD temperature window was observed at 195–205 ºC with a deposition rate of 0.23 nm/cycle. This process provides a straightforward option for the ALD of WO3 as opposed to the methods based on in situ generated oxyfluoride intermediates published earlier.

Nykypäivän uusilla materiaaleilla on mielenkiintoisia ominaisuuksia. Perustan uusien materiaalien ja niiden ominaisuuksien ymmärtämiselle muodostaa monesti nanometri-mittakaavan ilmiöiden hallinta. Tässä väitöskirjassa tutkittiin kolmea alle 100 nanometrin paksuista ohutkalvomateriaalia - Sinkkioksidia (ZnO), titaanidioksidia (TiO2) ja volframi-trioksidia (WO3) - pinnan funktionalisoinnin näkökulmasta. Ohutkalvot valmistettiin atomikerroskasvatus (ALD) –menetelmällä. Aluksi tutkittiin sinkkioksidin kasvatusta matalissa lämpötiloissa. Kasvatus oli mahdollista jopa huoneenlämpötilassa. Alle 70 ºC:ssa ZnO:n heksagonaalinen wurziittirakenne järjestyi pinnalle c-akselin suunnassa ja korkeammissa lämpötiloissa havaittiin myös a-akselin suuntaan järjestymistä. Kalvojen kiteisyyttä parannettiin kasvatuksen jälkeen suoritetuilla lämpökäsittelyillä 400–600 ºC:ssa happi- ja argonkehissä säilyttäen samalla alkuperäinen järjestyminen. ZnO:n avulla tutkittiin myös kaskas-hyönteisen (Pomponia Intermedia) siiven pinnan muokkaamista. Siiven pinnan pilareista muodostuva nanorakenne päällystettiin 100 nanometrin paksuisella ZnO-kerroksella valikoivasti pilareiden väliseen tilaan. Koko pinta saatiin päällystettyä tasaisesti käyttämällä ohutta alumiinioksidipohjakerrosta sinkkioksidikerroksen alla. Myös siiven pinnan kastuvuus-ominaisuuksia tutkittiin. Superhydrofobinen, vettähylkivä pinta päällystettiin sinkkioksidilla säilyttäen alkuperäinen vettähylkivyys. Pinta voitiin muuttaa hydrofiiliseksi ultravioletti(UV) –valon avulla ja palauttaa takaisin hydrofobiseksi pimeässä ympäristössä. Muunneltavaa kastuvuutta sovellettiin nestevirtojen ohjaamisessa tasaisella pinnalla valottamalla sinkkioksidipintaa UV-laserin avulla maskin läpi ja ohjaamalla vettä syntyneissä hydrofiilisissä kanavissa. Ilmiöllä on sovelluskohteita esim. mikrofluidistiikassa. Titaanidioksidi on tunnettu ALD-kalvomateriaali jota voidaan valmistaa matalissakin lämpötiloissa. Tässä työssä sen mahdollisuuksia havainnollistettiin kasvattamalla TiO2-kerros nanohuokoisen selluloosan päälle ja selluloosan polttamisen jälkeen käyttämällä syntynyttä, TiO2-nanoputkimassaa kosteusanturina. Anturi antoi toistettavan resistiivisen ja kapasitiivisen vasteen 40–80 %:n suhteellisen kosteuden alueella. Viimeiseksi esiteltiin uusi, aiemmin julkaistuja prosesseja yksinkertaisempi volframitrioksidin ALD-prosessi W(CO)6 ja O3 –lähdeaineista. ALD-ikkuna havaittiin 195–205 ºC:n alueella jolloin kasvunopeus oli 0,23 nm/sykli.
Description
Supervising professor
Karppinen, Maarit, Academy Professor, Aalto University, Department of Chemistry, Finland
Keywords
atomic layer deposition, thin film, funtionalization, wettability, ultraviolet, humidity, zinc oxide, titanium dioxide, tungsten trioxide, atomikerroskasvatus, ohutkalvo, funktionalisointi, kastuvuus, ultravioletti, kosteus, sinkkioksidi, titaanidioksidi, volframitrioksidi
Other note
Parts
  • [Publication 1]: R.H.A. Ras, E. Sahramo, J. Malm, J. Raula, and M. Karppinen, Blocking the lateral film growth at the nanoscale in area-selective atomic layer deposition, Journal of the American Chemical Society 130 (2008) 11252-11253.
  • [Publication 2]: J Malm, E. Sahramo, M. Karppinen, and R.H.A. Ras, Photo-controlled wettability switching by conformal coating of nanoscale topographies with ultrathin oxide films, Chemistry of Materials 22 (2010) 3349-3352.
  • [Publication 3]: V. Kekkonen, A. Hakola, T. Kajava, E. Sahramo, J. Malm, M. Karppinen, and R.H.A. Ras, Self-Erasing and rewritable wettability patterns on ZnO thin films, Applied Physics Letters 97 (2010) 044102-1-044102-3.
  • [Publication 4]: J. Malm, E.Sahramo, J. Perälä, T. Sajavaara, and M. Karppinen, Low-temperature atomic layer deposition of ZnO thin films: control of crystallinity and orientation, Thin Solid Films 519 (2011) 5319-5322.
  • [Publication 5]: J.T. Korhonen, P. Hiekkataipale, J. Malm, M. Karppinen, O. Ikkala, and R.H.A. Ras, Inorganic hollow nanotube aerogels by atomic layer deposition onto native nanocellulose templates, ACS Nano 3 (2011) 1967-1974.
  • [Publication 6]: J. Malm, T. Sajavaara, and M. Karppinen, Atomic layer deposition of WO3 thin films using W(CO)6 and O3 precursors, Chemical Vapor Deposition 18 (2012) 245-248.
Citation