Deposition of magnesium oxide thin films by atomic layer epitaxy

Simple item page
dc.contributorAalto-yliopistofi
dc.contributorAalto Universityen
dc.contributor.authorPutkonen, Matti
dc.contributor.departmentKemian tekniikan osastofi
dc.contributor.schoolTeknillinen korkeakoulufi
dc.contributor.schoolHelsinki University of Technologyen
dc.contributor.supervisorNiinistö, Lauri 
dc.date.accessioned2020-12-03T21:04:52Z
dc.date.available2020-12-03T21:04:52Z
dc.date.issued1997 
dc.format.extentvii + 91 
dc.identifier.urihttps://aaltodoc.aalto.fi/handle/123456789/85584
dc.identifier.urnURN:NBN:fi:aalto-2020120344422
dc.language.isoenen
dc.programme.majorEpäorgaaninen kemiafi
dc.programme.mcodeKem-35fi
dc.rights.accesslevelclosedAccess
dc.titleDeposition of magnesium oxide thin films by atomic layer epitaxyen
dc.titleMagnesiumoksidiohutkalvojen valmistus atomikerrosepitaksiamenetelmälläfi
dc.type.okmG2 Pro gradu, diplomityö 
dc.type.ontasotMaster's thesisen
dc.type.ontasotPro gradu -tutkielmafi
dc.type.publicationmasterThesis 
local.aalto.digiauthask
local.aalto.digifolderAalto_14327
local.aalto.idinssi12868
local.aalto.openaccessno
Files
Collections
[dipl] Teknillinen korkeakoulu / TKK