Oksidiohutkalvojen valmistus FCVAD- ja HiPIMS-menetelmillä sekä niihin liittyvät ongelmat

Simple item page
dc.contributorAalto-yliopistofi
dc.contributorAalto Universityen
dc.contributor.advisorKorhonen, Antti
dc.contributor.authorMyllynen, Antti
dc.contributor.schoolKemiantekniikan korkeakoulufi
dc.contributor.supervisorForsén, Olof
dc.date.accessioned2015-06-29T05:12:47Z
dc.date.available2015-06-29T05:12:47Z
dc.date.issued2015-04-29
dc.format.extent22
dc.format.mimetypeapplication/pdfen
dc.identifier.urihttps://aaltodoc.aalto.fi/handle/123456789/16943
dc.identifier.urnURN:NBN:fi:aalto-201506303289
dc.language.isofien
dc.programmeMateriaalitekniikka MTEfi
dc.programme.majorSoveltava materiaalitiedefi
dc.programme.mcodeMT3001fi
dc.subject.keywordoksidiohutkalvofi
dc.subject.keywordHiPIMSfi
dc.subject.keywordFCVADfi
dc.subject.keywordPVDfi
dc.subject.keywordalumiinioksidifi
dc.subject.keywordtitaanioksidifi
dc.titleOksidiohutkalvojen valmistus FCVAD- ja HiPIMS-menetelmillä sekä niihin liittyvät ongelmatfi
dc.typeG1 Kandidaatintyöfi
dc.type.dcmitypetexten
dc.type.ontasotBachelor's thesisen
dc.type.ontasotKandidaatintyöfi
Files
Collections
[kand] Kemian tekniikan korkeakoulu / CHEM