Atomic layer deposition of ZnO thin films on functional surfaces

dc.contributorAalto-yliopistofi
dc.contributorAalto Universityen
dc.contributor.advisorMalm, Jari
dc.contributor.authorSahramo, Elina
dc.contributor.departmentKemian tekniikan osastofi
dc.contributor.schoolTeknillinen korkeakoulufi
dc.contributor.schoolHelsinki University of Technologyen
dc.contributor.supervisorKarppinen, Maarit
dc.date.accessioned2020-12-05T11:03:36Z
dc.date.available2020-12-05T11:03:36Z
dc.date.issued2007
dc.format.extentvii + 76
dc.identifier.urihttps://aaltodoc.aalto.fi/handle/123456789/95068
dc.identifier.urnURN:NBN:fi:aalto-2020120553902
dc.language.isoenen
dc.programme.majorEpäorgaaninen kemiafi
dc.programme.mcodeKem-35fi
dc.rights.accesslevelclosedAccess
dc.titleAtomic layer deposition of ZnO thin films on functional surfacesen
dc.titleZnO-ohutkalvojen atomikerroskasvatus funktionaalisille pinnoillefi
dc.type.okmG2 Pro gradu, diplomityö
dc.type.ontasotMaster's thesisen
dc.type.ontasotPro gradu -tutkielmafi
dc.type.publicationmasterThesis
local.aalto.digiauthask
local.aalto.digifolderAalto_15035
local.aalto.idinssi34998
local.aalto.openaccessno

Files