Atomic layer deposition and post-deposition annealing of perovskite oxide thin films

Simple item page
dc.contributorAalto-yliopistofi
dc.contributorAalto Universityen
dc.contributor.authorKosola, Anne
dc.contributor.departmentKemian tekniikan osastofi
dc.contributor.schoolTeknillinen korkeakoulufi
dc.contributor.schoolHelsinki University of Technologyen
dc.contributor.supervisorNiinistö, Lauri 
dc.date.accessioned2021-04-14T21:19:46Z
dc.date.available2021-04-14T21:19:46Z
dc.date.issued2005 
dc.format.extent75+ 
dc.identifier.urihttps://aaltodoc.aalto.fi/handle/123456789/106512
dc.identifier.urnURN:NBN:fi:aalto-202104155802
dc.language.isoenen
dc.programme.majorEpäorgaaninen kemiafi
dc.programme.mcodeKem-35fi
dc.rights.accesslevelclosedAccess
dc.titleAtomic layer deposition and post-deposition annealing of perovskite oxide thin filmsen
dc.titlePerovskiittioksidiohutkalvojen atomikerroskasvatus ja lämpökäsittelyfi
dc.type.okmG3 Lisensiaatintutkimus 
dc.type.ontasotLicentiate thesisen
dc.type.ontasotLisensiaatintyöfi
local.aalto.digiauthask
local.aalto.digifolderAalto_15081
local.aalto.idinssi31219
local.aalto.openaccessno

Files

Collections

[lic] Teknillinen korkeakoulu / TKK