Micromechanical ion source mode of silicon and glass

Simple item page
dc.contributorAalto-yliopistofi
dc.contributorAalto Universityen
dc.contributor.advisorFranssila, Sami 
dc.contributor.authorMarttila, Seppo
dc.contributor.departmentSähkö- ja tietoliikennetekniikan osastofi
dc.contributor.schoolTeknillinen korkeakoulufi
dc.contributor.schoolHelsinki University of Technologyen
dc.contributor.supervisorTittonen, Ilkka 
dc.date.accessioned2020-12-04T16:16:11Z
dc.date.available2020-12-04T16:16:11Z
dc.date.issued2003 
dc.format.extentix + 83 
dc.identifier.urihttps://aaltodoc.aalto.fi/handle/123456789/91285
dc.identifier.urnURN:NBN:fi:aalto-2020120450120
dc.language.isofien
dc.programme.majorMittaustekniikkafi
dc.programme.mcodeS-108fi
dc.rights.accesslevelclosedAccess
dc.subject.keywordsilicon etchingen
dc.subject.keywordpiin etsausfi
dc.subject.keywordglass etchingen
dc.subject.keywordlasin etsausfi
dc.subject.keywordwafer bondingen
dc.subject.keywordkiekkobondausfi
dc.subject.keywordmass spectrometryen
dc.subject.keywordmassaspektrometriafi
dc.subject.keywordAPCIfi
dc.titleMicromechanical ion source mode of silicon and glassen
dc.titleMikromekaaninen ionilähde piitä ja lasia prosessoimallafi
dc.type.okmG2 Pro gradu, diplomityö 
dc.type.ontasotMaster's thesisen
dc.type.ontasotPro gradu -tutkielmafi
dc.type.publicationmasterThesis 
local.aalto.digiauthask
local.aalto.digifolderAalto_35381
local.aalto.idinssi21172
local.aalto.inssilocationP1 Ark S80
local.aalto.openaccessno

Files

Collections

[dipl] Teknillinen korkeakoulu / TKK