Thermal Stability of the Cu/Cr/Si Structure

dc.contributorAalto-yliopistofi
dc.contributorAalto Universityen
dc.contributor.authorYoseef, Ezer
dc.contributor.departmentSähkö- ja tietoliikennetekniikan osastofi
dc.contributor.schoolTeknillinen korkeakoulufi
dc.contributor.schoolHelsinki University of Technologyen
dc.contributor.supervisorKuivalainen, Pekka
dc.date.accessioned2021-04-14T18:34:42Z
dc.date.available2021-04-14T18:34:42Z
dc.date.issued1998
dc.format.extent48
dc.identifier.urihttps://aaltodoc.aalto.fi/handle/123456789/105856
dc.identifier.urnURN:NBN:fi:aalto-202104145146
dc.language.isoenen
dc.programme.majorElektronifysiikkafi
dc.programme.mcodeS-69fi
dc.rights.accesslevelclosedAccess
dc.subject.keywordelectronic materialsen
dc.subject.keywordmultilayersen
dc.subject.keywordthin filmsen
dc.subject.keywordsputteringen
dc.subject.keywordelectrical propertiesen
dc.titleThermal Stability of the Cu/Cr/Si Structureen
dc.titleCu/Cr/Si-rakenteen terminen stabiilisuusfi
dc.type.okmG3 Lisensiaatintutkimus
dc.type.ontasotLicentiate thesisen
dc.type.ontasotLisensiaatintyöfi
local.aalto.digiauthask
local.aalto.digifolderAalto_39217
local.aalto.idinssi13827
local.aalto.openaccessno

Files