The Effects of Process Parameters Related to Hydrogen Formation on KOH-etched Silicon Surface Roughness

Simple item page
dc.contributorAalto-yliopistofi
dc.contributorAalto Universityen
dc.contributor.advisorHaimi, Eero 
dc.contributor.authorYlänen, Jani
dc.contributor.departmentMateriaali- ja kalliotekniikan osastofi
dc.contributor.schoolTeknillinen korkeakoulufi
dc.contributor.schoolHelsinki University of Technologyen
dc.contributor.supervisorLindroos, Veikko 
dc.date.accessioned2020-12-04T13:12:22Z
dc.date.available2020-12-04T13:12:22Z
dc.date.issued2000 
dc.format.extent79+29 
dc.identifier.urihttps://aaltodoc.aalto.fi/handle/123456789/88205
dc.identifier.urnURN:NBN:fi:aalto-2020120447040
dc.language.isofien
dc.programme.majorMetalli- ja materiaalioppifi
dc.programme.mcodeMak-45fi
dc.rights.accesslevelclosedAccess
dc.titleThe Effects of Process Parameters Related to Hydrogen Formation on KOH-etched Silicon Surface Roughnessen
dc.titleVedyn kehitykseen liittyvien prosessiparametrien vaikutus kaliumhydroksidiliuoksilla syövytetyn piin pinnanlaatuunfi
dc.type.okmG2 Pro gradu, diplomityö 
dc.type.ontasotMaster's thesisen
dc.type.ontasotPro gradu -tutkielmafi
dc.type.publicationmasterThesis 
local.aalto.digiauthask
local.aalto.digifolderAalto_43835
local.aalto.idinssi15716
local.aalto.inssilocationP1 Ark V80
local.aalto.openaccessno

Files

Collections

[dipl] Teknillinen korkeakoulu / TKK