Sulfidiohutkalvojen valmistus atomikerrosepitaksialla ja niiden karakterisointi korkean lämpötilan röntgendiffraktiolla

dc.contributorAalto-yliopistofi
dc.contributorAalto Universityen
dc.contributor.authorRautanen, Janne
dc.contributor.departmentProsessi- ja materiaalitekniikan osastofi
dc.contributor.schoolTeknillinen korkeakoulufi
dc.contributor.schoolHelsinki University of Technologyen
dc.contributor.supervisorNiinistö, Lauri
dc.date.accessioned2021-04-14T18:19:05Z
dc.date.available2021-04-14T18:19:05Z
dc.date.issued1996
dc.format.extent77 s. + liitt.
dc.identifier.urihttps://aaltodoc.aalto.fi/handle/123456789/105556
dc.identifier.urnURN:NBN:fi:aalto-202104144846
dc.language.isofien
dc.programme.majorEpäorgaaninen kemiafi
dc.programme.mcodeKem-35fi
dc.rights.accesslevelclosedAccess
dc.titleSulfidiohutkalvojen valmistus atomikerrosepitaksialla ja niiden karakterisointi korkean lämpötilan röntgendiffraktiollafi
dc.titleThe atomic layer epitaxy growth of sulfide thin films and their characterisation by high temperature X-ray diffractionen
dc.type.okmG3 Lisensiaatintutkimus
dc.type.ontasotLicentiate thesisen
dc.type.ontasotLisensiaatintyöfi
local.aalto.digiauthask
local.aalto.digifolderAalto_15166
local.aalto.idinssi11023
local.aalto.openaccessno

Files