Deposition of tin dioxide thin films by atomic layer epitaxy

Simple item page
dc.contributorAalto-yliopistofi
dc.contributorAalto Universityen
dc.contributor.authorViirola, Heli
dc.contributor.departmentProsessi- ja materiaalitekniikan osastofi
dc.contributor.schoolTeknillinen korkeakoulufi
dc.contributor.schoolHelsinki University of Technologyen
dc.contributor.supervisorNiinistö, Lauri 
dc.date.accessioned2021-04-14T14:30:15Z
dc.date.available2021-04-14T14:30:15Z
dc.date.issued1994 
dc.format.extentiv + 75 s. + liitt. 
dc.identifier.urihttps://aaltodoc.aalto.fi/handle/123456789/105364
dc.identifier.urnURN:NBN:fi:aalto-202104144654
dc.language.isoenen
dc.programme.majorEpäorgaaninen kemiafi
dc.programme.mcodeKem-35fi
dc.rights.accesslevelclosedAccess
dc.titleDeposition of tin dioxide thin films by atomic layer epitaxyen
dc.titleTinadioksidiohutkalvojen valmistus atomikerrosepitaksiallafi
dc.type.okmG3 Lisensiaatintutkimus 
dc.type.ontasotLicentiate thesisen
dc.type.ontasotLisensiaatintyöfi
local.aalto.digiauthask
local.aalto.digifolderAalto_15193
local.aalto.idinssi9642
local.aalto.openaccessno

Files

Collections

[lic] Teknillinen korkeakoulu / TKK