Optimization of the atomic layer deposition process in the fabrication of optical interference filters

Simple item page
dc.contributorAalto-yliopistofi
dc.contributorAalto Universityen
dc.contributor.advisorTörnqvist, Runar 
dc.contributor.authorLang, Teemu
dc.contributor.departmentSähkö- ja tietoliikennetekniikan osastofi
dc.contributor.schoolTeknillinen korkeakoulufi
dc.contributor.schoolHelsinki University of Technologyen
dc.contributor.supervisorTuomi, Turkka 
dc.date.accessioned2020-12-04T15:21:05Z
dc.date.available2020-12-04T15:21:05Z
dc.date.issued2002 
dc.format.extent71 
dc.identifier.urihttps://aaltodoc.aalto.fi/handle/123456789/90241
dc.identifier.urnURN:NBN:fi:aalto-2020120449076
dc.language.isofien
dc.programme.majorOptoelektroniikkafi
dc.programme.mcodeS-104fi
dc.rights.accesslevelclosedAccess
dc.subject.keywordthin-film interference filtersen
dc.subject.keywordohutkalvo-interferenssisuodattimetfi
dc.subject.keywordatomic layer depositionen
dc.subject.keywordatomikerroskasvatusfi
dc.subject.keywordALD-reactoren
dc.subject.keywordALD-reaktorifi
dc.subject.keywordALD-cycleen
dc.subject.keywordALD-syklifi
dc.titleOptimization of the atomic layer deposition process in the fabrication of optical interference filtersen
dc.titleAtomikerroskasvatuksen optimointi optisten interferenssisuodattimien valmistuksessafi
dc.type.okmG2 Pro gradu, diplomityö 
dc.type.ontasotMaster's thesisen
dc.type.ontasotPro gradu -tutkielmafi
dc.type.publicationmasterThesis 
local.aalto.digiauthask
local.aalto.digifolderAalto_12015
local.aalto.idinssi19127
local.aalto.inssiarchivenr2988
local.aalto.inssilocationP1 Ark TKK
local.aalto.openaccessno

Files

Collections

[dipl] Teknillinen korkeakoulu / TKK