Tantalum based thin film resistors and diffusion barriers

Simple item page
dc.contributorAalto-yliopistofi
dc.contributorAalto Universityen
dc.contributor.advisorMolarius, Jyrki 
dc.contributor.authorRiekkinen, Tommi
dc.contributor.departmentMateriaali- ja kalliotekniikan osastofi
dc.contributor.schoolTeknillinen korkeakoulufi
dc.contributor.schoolHelsinki University of Technologyen
dc.contributor.supervisorKivilahti, Jorma 
dc.date.accessioned2020-12-04T14:18:59Z
dc.date.available2020-12-04T14:18:59Z
dc.date.issued2001 
dc.format.extent73 
dc.identifier.urihttps://aaltodoc.aalto.fi/handle/123456789/89461
dc.identifier.urnURN:NBN:fi:aalto-2020120448296
dc.language.isofien
dc.programme.majorElektroniikan valmistustekniikkafi
dc.programme.mcodeS-113fi
dc.rights.accesslevelclosedAccess
dc.subject.keywordthin film resistoren
dc.subject.keywordohutkalvovastusfi
dc.subject.keyworddiffusion barrieren
dc.subject.keyworddiffuusiovallifi
dc.subject.keywordbeta-Taen
dc.subject.keywordbeta-Tafi
dc.subject.keywordTa2Nen
dc.subject.keywordTa2fi
dc.subject.keywordTaNen
dc.subject.keywordTaNfi
dc.subject.keywordTaCen
dc.subject.keywordTaCfi
dc.subject.keywordsputteringen
dc.subject.keywordsputterointifi
dc.subject.keywordtemperature coefficient of resistance (TCR)en
dc.subject.keywordvastuksen lämpötilakerroin (TCR)fi
dc.titleTantalum based thin film resistors and diffusion barriersen
dc.titleTantaaliyhdisteisiin perustuvat ohutkalvovastukset ja diffuusiovallitfi
dc.type.okmG2 Pro gradu, diplomityö 
dc.type.ontasotMaster's thesisen
dc.type.ontasotPro gradu -tutkielmafi
dc.type.publicationmasterThesis 
local.aalto.digiauthask
local.aalto.digifolderAalto_52909
local.aalto.idinssi18871
local.aalto.openaccessno

Files

Collections

[dipl] Teknillinen korkeakoulu / TKK