Black silicon fabrication by plasma etching

Simple item page
dc.contributorAalto-yliopistofi
dc.contributorAalto Universityen
dc.contributor.advisorFranssila, Sami
dc.contributor.authorVilla, Alex
dc.contributor.schoolKemiantekniikan korkeakoulufi
dc.contributor.supervisorRautkari, Lauri
dc.date.accessioned2018-07-31T09:10:51Z
dc.date.available2018-07-31T09:10:51Z
dc.date.issued2018-07-04
dc.format.extent31
dc.format.mimetypeapplication/pdfen
dc.identifier.urihttps://aaltodoc.aalto.fi/handle/123456789/32653
dc.identifier.urnURN:NBN:fi:aalto-201807314054
dc.language.isoenen
dc.programmeKemiantekniikan kandidaattiohjelmafi
dc.programme.majorBio- ja kemiantekniikkafi
dc.programme.mcodeCHEM3012fi
dc.subject.keywordblack siliconen
dc.subject.keywordphotonicsen
dc.subject.keywordsiliconen
dc.subject.keyworddeep reactive ion etchingen
dc.subject.keywordreactive ion etchingen
dc.subject.keywordBosch processen
dc.titleBlack silicon fabrication by plasma etchingen
dc.typeG1 Kandidaatintyöfi
dc.type.dcmitypetexten
dc.type.ontasotBachelor's thesisen
dc.type.ontasotKandidaatintyöfi

Files

Collections

[kand] Kemian tekniikan korkeakoulu / CHEM