Metallisen koboltin ohutkalvojen valmistus CVD- ja ALD-menetelmillä

Abstract

Tässä kandidaatintyössä tarkasteltiin metallisten kobolttiohutkalvojen valmistamista CVD- ja ALD-menetelmillä. Työssä vertailtiin CVD- ja ALD-menetelmillä valmistettuja koboltin ohutkalvoja ottaen huomioon prosessien edut, haasteet ja kehitysmahdollisuudet. Työ toteutettiin kirjallisuustutkimuksena.

Metallisten koboltin ohutkalvojen sovelluskohteet ovat laajat. Vertailun lopputuloksena on, että paras valmistusmenetelmä riippuu sovelluskohteesta. CVD on jo yleisesti käytössä oleva menetelmä, kun taas ALD:stä on paljon tutkimusta. CVD on menetelmänä kustannustehokkaampi, mutta erittäin teknisissä ohutkalvoissa laatuvaatimukset voivat osoittautua liian korkeiksi. ALD:llä on kuitenkin enemmän potentiaalia vastata yhä kasvaviin teknisiin vaatimuksiin.

This bachelor’s thesis examines metallic cobalt thin films manufactured with CVD and ALD. The thesis compares CVD- and ALD-processes as a manufacturing method for metallic cobalt thin films considering process benefits, challenges and development opportunities. This thesis was conducted as literary research.

The variety for cobalt thin film applications is large. This results in the best manufacturing process depending on the application. CVD is already a generally used method in manufacturing cobalt thin films. Furthermore, CVD is a cost-efficient method. On the other hand, ALD is largely researched. However, the feasibility of the ALD process is still a concern. Even thought CVD is more cost-efficient, the extremely high technical requirements can turn out challenging. ALD has more potential to reach the ever-increasing technical demands.