Fotoresistitekniikan kehittäminen submikronialueen CMOS-prosessiin
No Thumbnail Available
URL
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Helsinki University of Technology |
Diplomityö
Checking the digitized thesis and permission for publishing
Instructions for the author
Instructions for the author
Authors
Date
1999
Department
Major/Subject
Elektronifysiikka
Mcode
S-69
Degree programme
Language
fi
Pages
69
Series
Abstract
Työn tavoitteena oli tutkia erilaisia resistinpoistotekniikoita, kehittää resistijäämien havainnointimenetelmiä sekä ottaa käyttöön uusi fotoresisti. Päätavoitteena oli kehittää alumiinietsattujen kiekkojen resistinpoistoon soveltuva menetelmä. Kirjallisuustutkimuksessa on käsitelty yleisesti käytettyjä litografialaitteistoja ja -teknologioita sekä perehdytty resistimateriaalien ominaisuuksiin. Lisäksi on selvitetty puolijohdeteknologiassa käytettäviä etsaus- ja ioni-istutusprosesseja ja näiden prosessien aiheuttamia kemiallisia muutoksia resistissä. Nämä muutokset voivat aiheuttaa ongelmia, kun resisti poistetaan. Resistinpoistotekniikoista on käsitelty yleisimmin käytössä olevia märkä- ja kuivapoistomenetelmiä. Lopuksi on esitelty tässä työssä käytettyjä laitteistoja, joilla voidaan tutkia resistinpoiston tehokkuutta ja resistijäämiä. Kokeellisessa osassa on otettu käyttöön uusi fotoresisti, tutkittu useiden erilaisten resistinpoistomenetelmien tehokkuutta alumiinietsatuilla kiekoilla ja kehitetty resistijäämien havainnointiin soveltuvia menetelmiä. Resistinpoiston tehokkuutta alumiinietsatuilta kiekoilta on tarkasteltu pyyhkäisyelektronimikroskoopilla, ja resistinpoiston vaikutuksia alumiinijohtimiin on tutkittu sähköisillä mittauksilla. Piikiekoilla olevien resistijäämien havainnoinnissa on käytetty laser-avusteista mittauslaitteistoa ja atomivoimamikroskooppia.Description
Supervisor
Kuivalainen, PekkaKeywords
photoresist, fotoresisti, lithography, litografia, etching, etsaus, ion-implantation, ioni-istutus, stripping, strippaus, organic resist removal, orgaaninen resistinpoisto, cencor, Censor, SEM, SEM, AFM, AFM