Mikroskooppisen pisaran leviämisen simulointi homogeenisella pinnalla

Thumbnail Image

URL

Journal Title

Journal ISSN

Volume Title

Helsinki University of Technology | Diplomityö
Checking the digitized thesis and permission for publishing
Instructions for the author

Authors

Date

1998

Department

Sähkö- ja tietoliikennetekniikan osasto

Major/Subject

Laskennallinen tekniikka

Mcode

S-114

Degree programme

Language

fi

Pages

67

Series

Abstract

Työssä tutkittiin mikroskooppisen pisaran leviämistä tasaisella ja homogeenisella pinnalla. Leviämiskäyttäytymisen tuntemisella on huomattavaa merkitystä useissa teollisissa sovellutuksissa, kuten voitelussa, liimauksessa, värjäyksessä ja maalauksessa. Vaikka klassinen kapillaariteoria selittää useat pisaran käyttäytymiseen liittyvät makroskooppiset ilmiöt, ei kaikkia mikroskooppisia prosesseja vielä täysin ymmärretä. Toisaalta Hardy jo vuosisadan alkupuolella huomasi leviävää pisaraa edeltävän hyvin ohuen nestekalvon (Hardy 1919). Viimeaikaiset ellipsometriamittaukset (Heslot et al. 1989a) ovat vahvistaneet Hardyn havainnon sekä paljastaneet mielenkiintoisen pisaran kerrostumiskäyttäytymisen leviämisen aikana. Tässä työssä onkin lähdetty tutkimaan näitä prosesseja tietokonesimulaation avulla. Simulaatiomenetelmänä on käytetty Monte Carlo tyyppistä Ising-mallia. Työn alkuosassa käydään läpi pisaran leviämisen sekä Ising-mallin teoriaa. Tämän jälkeen käsitellään simulaatio-ohjelman rakennetta ja sen tärkeimpien osien toimintaa. Lopuksi esitetään saadut tulokset ja verrataan niitä vastaaviin kokeellisiin ja teoreettisiin tuloksiin.

Description

Supervisor

Kaski, Kimmo

Keywords

droplet, pisara, spreading, leviäminen, precursor, prekursori, ising model, Ising-malli

Other note

Citation

Permanent link to this item

https://urn.fi/URN:NBN:fi:aalto-2020120445173

Collections

[dipl] Teknillinen korkeakoulu / TKK