Hafniumoksidin atomikerroskasvatus ja fysikaaliset ominaisuudet

 |  Login

Show simple item record

dc.contributor Aalto-yliopisto fi
dc.contributor Aalto University en
dc.contributor.advisor Bosund, Markus
dc.contributor.author Mäkinen, Joonas
dc.date.accessioned 2012-12-20T08:33:09Z
dc.date.available 2012-12-20T08:33:09Z
dc.date.issued 2009
dc.identifier.uri https://aaltodoc.aalto.fi/handle/123456789/6896
dc.format.extent 29 s.
dc.format.mimetype application/pdf
dc.language.iso fi en
dc.title Hafniumoksidin atomikerroskasvatus ja fysikaaliset ominaisuudet fi
dc.title The growth of hafnium oxide by atomic layer deposition and the physical properties en
dc.type G1 Kandidaatintyö fi
dc.contributor.school Elektroniikan, tietoliikenteen ja automaation tiedekunta fi
dc.subject.keyword ALD fi
dc.subject.keyword atomikerroskasvatus fi
dc.subject.keyword hafniumoksidi fi
dc.subject.keyword HfO2 fi
dc.subject.keyword taitekerroin fi
dc.subject.keyword läpilyöntikenttä fi
dc.identifier.urn URN:NBN:fi:aalto-201305166355
dc.type.dcmitype text en
dc.programme.major Sähköfysiikka fi
dc.programme.mcode S3014
dc.type.ontasot Kandidaatintyö fi
dc.type.ontasot Bachelor's thesis en
dc.contributor.supervisor Turunen, Markus
dc.programme Elektroniikan ja sähkötekniikan tutkinto-ohjelma (EST) fi

Files in this item

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record

Search archive

Advanced Search

article-iconSubmit a publication


My Account