Fabrication of optical rugate structures by atomic layer deposition

 |  Login

Show simple item record

dc.contributor Aalto-yliopisto fi
dc.contributor Aalto University en
dc.contributor.advisor Härkönen, Kari
dc.contributor.author Niiranen, Kalle
dc.date.accessioned 2016-09-22T08:56:41Z
dc.date.available 2016-09-22T08:56:41Z
dc.date.issued 2016-09-13
dc.identifier.uri https://aaltodoc.aalto.fi/handle/123456789/22166
dc.description.abstract Methods for the fabrication of thin film structures with multiple optical admittance values by thermal Atomic Layer Deposition are presented. The deposition of films was conducted at the clean-room facilities of Beneq,Espoo with film characterization by spectroscopic methods. Results include linear models for compositionally varying refractive indices of Al2O3-TiO2 and SiO2(Al)-TiO2 laminated films. A method to achieve tunable refractive indices accounting for dispersion is confirmed and correspondence to theoretical models achieved. The optical properties of inhomogeneity and optical losses for both systems are also characterized. Realized applications comprise of an apodized rugate notch filter using the Al2O3-TiO2 system and a rugate anti-reflection coating using the SiO2(Al)-TiO2 system. en
dc.description.abstract Tämä diplomityö käsittelee useita optisia admittanssiarvoja omaavien rugate-ohutkalvorakenteiden valmistusta atomikerroskasvatusmenetelmällä. Kalvojen kasvatus tapahtui Beneq Oy:n puhdastiloissa Espoossa. Ohutkalvojen karakterisointi toteutettiin spektroskopisilla menetelmillä. Työn tuloksina olivat lineaariset mallit taitekertoimen muutokseen tilavuuspitoisuuden funktiona Al2O3-TiO2 ja SiO2(Al)TiO2 -nanolaminaattikalvoissa. Kalvojen optisia ominaisuuksia, kuten epähomogeenisuutta ja häviöitä, on karakterisoitu ja havaittujen ilmiöiden syitä analysoitu. Saatujen tulosten perusteella sovelluksina kehitettiin apodisoitu kaistanestosuodatin Al2O3-TiO2 -systeemillä ja heijastuksenestopinnoite käyttäen SiO2(Al)-TiO2 -systeemiä. fi
dc.format.extent 84+7
dc.language.iso en en
dc.title Fabrication of optical rugate structures by atomic layer deposition en
dc.title Optisten rugate-rakenteiden valmistus atomikerroskasvatumenetelmällä fi
dc.type G2 Pro gradu, diplomityö fi
dc.contributor.school Kemian tekniikan korkeakoulu fi
dc.subject.keyword atomic layer deposition en
dc.subject.keyword rugate en
dc.subject.keyword refractive index en
dc.subject.keyword nanolaminate en
dc.subject.keyword thin film en
dc.subject.keyword optics en
dc.identifier.urn URN:NBN:fi:aalto-201609224175
dc.programme.major Soveltava materiaalitiede fi
dc.programme.mcode MT3001 fi
dc.type.ontasot Master's thesis en
dc.type.ontasot Diplomityö fi
dc.contributor.supervisor Franssila, Sami
dc.programme MTE - Materiaalitekniikan koulutusohjelma fi
dc.location PK fi


Files in this item

Files Size Format View

There are no files associated with this item.

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record

Search archive


Advanced Search

article-iconSubmit a publication

Browse

My Account