Atomic/molecular layer deposition of hybrid inorganic-organic thin films

 |  Login

Show simple item record

dc.contributor Aalto-yliopisto fi
dc.contributor Aalto University en
dc.contributor.advisor Karppinen, Maarit, Prof., Aalto University, Department of Chemistry, Finland
dc.contributor.advisor Sood, Anjali, Dr.
dc.contributor.author Sundberg, Pia
dc.date.accessioned 2015-02-13T10:00:22Z
dc.date.available 2015-02-13T10:00:22Z
dc.date.issued 2014
dc.identifier.isbn 978-952-60-5998-3 (electronic)
dc.identifier.isbn 978-952-60-5997-6 (printed)
dc.identifier.issn 1799-4942 (electronic)
dc.identifier.issn 1799-4934 (printed)
dc.identifier.issn 1799-4934 (ISSN-L)
dc.identifier.uri https://aaltodoc.aalto.fi/handle/123456789/15147
dc.description.abstract The possibility to combine the best properties of the two constituents makes inorganic-organic hybrid materials as intriguing candidates for many high-end applications. However, the distinctly different material properties of the inorganic and organic constituents make the fabrication of hybrid materials challenging. For example when using solution deposition techniques, a solvent which works for the organic constituent does not necessarily work well for the inorganic one. Also when considering the potential applications for hybrids, many require the use of high-quality thin films. Atomic and molecular layer deposition (ALD and MLD) techniques are gas-phase deposition methods based on sequential surface-saturated reactions. By combining the two techniques it is possible to deposit high-quality hybrid thin films with accurate thickness and composition control. In this thesis novel inorganic-organic hybrid thin films were deposited using the combination of ALD and MLD. One of the main challenges when growing hybrid materials using the combined ALD/MLD technique is finding suitable precursors. When flexible linear organic precursors are used in ALD/MLD they may bend and hinder the growth process. In this work rigid aromatic amines, 4,4'-oxydianiline (ODA) and 4-aminophenol (AP) were used to improve the growth rates. Diethyl zinc (DEZ) and TiCl4, precursors commonly used in ALD, were selected as the inorganic precursors. Successful film growth was observed for all possible precursor combinations, but the growth rates achieved using AP as organic precursor were higher than those obtained using ODA, Ti-AP hybrid exhibiting almost ideal growth. As AP has two different functional groups, more control is achieved in the growth process whereas the  ether bond in ODA allows the molecule to bend. From the inorganic precursors TiCl4, which is stronger Lewis acid and has more ligands than DEZ, catalyzed the deposition reaction better. The cyclic growth process characteristic to ALD and MLD was utilized to make nano-structures consisting of oxides and hybrid materials. The material pairs investigated were TiCl4+ODA hybrid and TiO2, DEZ+AP hybrid and ZnO, and trimethylaluminum (TMA) + ethylene-1,2-diol (EG) and Al2O3. By varying the hybrid and oxide content in the Ti- and Zn-containing mixtures, it was possible to tune the degree of crystallinity, surface roughness, refractive index, mechanical properties and density in the formed films. The TMA-EG and Al2O3 nanolaminates were grown on polylactic acid substrates in order to fabricate a film more suitable for coating biomaterials in packaging applications. When compared to coatings made from pure Al2O3 or TMA+EG hybrid, the nanolaminate consisting of TMA+EG and Al2O3 layers withstood straining better. The strained nanolaminate was also better oxygen barrier than the strained pure coatings. en
dc.description.abstract Epäorgaanis-orgaanisilla hybridimateriaaleilla on valtavasti potentiaalia erilaisissa tulevaisuuden käyttökohteissa, sillä niissä voidaan yhdistää niin epäorgaanisten kuin orgaanistenkin materiaalien parhaat ominaisuudet. Juuri kuitenkin lähdemateriaalien erilaisuus tekee hybridien valmistuksesta haastavaa: esim. liuosfaasimenetelmissä orgaaniselle lähdeaineelle sopiva liuotin ei välttämättä sovi epäorgaaniselle lähdeaineelle. Lisäksi moni käytännön sovellus vaatii korkealaatuisten ohutkalvojen käyttöä. Atomi- ja molekyylikerroskasvatus (ALD/MLD) ovat kaasufaasikasvatusmenetelmiä, jotka perustuvat jaksottaisiin saturoituneisiin pintareaktioihin. Menetelmät yhdistämällä voidaan paitsi kasvattaa korkealaatuisia hybridiohutkalvoja, voidaan lisäksi säätää muodostuvan kalvon paksuutta ja rakennetta tarkasti. Tässä väitöskir-jassa ALD/MLD-menetelmiä käytettiin uudentyyppistenhybridiohutkalvojen valmistukseen. Yksi merkittävimmistä haasteista uusien hybrimateriaalien valmistuksessa ALD/MLD-menetelmillä on sopivien lähdeaineiden löytäminen. Kun käytetyt orgaaniset lähdeaineet ovat lineaarisia, ne voivat taipua jolloin kasvunopeudet pienenevät. Kasvunopeuksien parantamiseksi työssä käytettiin orgaanisina lähdeaineina jäykkärakenteisempia aromaattisia amineita, 4,4'-oksidianiliinia (ODA) ja 4-aminofenolia (AP). Epäorgaanisina lähdeaineina olivat ALD:ssa yleisesti käytetyt dietyylisinkki (DEZ) ja TiCl4. Ohutkalvoja kasvatettiin onnistuneesti kaikilla neljällä eri lähdeaineparilla. AP-pohjaiset kalvot kasvoivat paremmin kuin ODA:n perustuvat, Ti-AP hybridi lähes ideaalisesti. Todennäköisesti AP:n kaksi erilaista funktionaalista ryhmää edesauttoivat kontrolloidumpaa kasvua, kun taas ODA:n eetterisidos mahdollistaa molekyylin taipumisen. Epäorgaanisista lähdeaineista TiCl4, joka on vahvempi Lewis happo ja jolla on useampi ligandi kuin DEZ:llä, katalysoi kalvojen kasvua paremmin. Työssä valmistettiin lisäksi oksidista ja hybridistä koostuvia nanorakenteita hyödyntämällä ALD:n ja MLD:n jaksottaista kasvatusprosessia. Käytetyt aineparit olivat Ti-ODA hybridi + TiO2, Zn-AP hybridi + ZnO, ja trimetyylialumiini (TMA)+etyleeni-1,2-dioli (EG) hybridi + Al2O3. Valmistamalla Ti:a ja Zn:ä sisältäviä seoksia kyettiin kalvojen kiteisyyttä, pinnan karkeitta, taitekerrointa, mekaanisia ominaisuuksia ja tiheyttä säätelemään vaihtelemalla hybridin ja oksidin määrää nanorakenteissa. TMA-EG hybridistä ja Al2O3:sta koostuvia nanolaminaatteja kasvatettiin polylaktidille, tarkoituksena valmistaa kalvo joka soveltuu Al2O3-kalvoa paremmin biopohjaisten pakkausmateriaalien pinnoittamiseen. TMA+EG ja Al2O3-kerroksista muodostuvan nanolaminaatin havaittiin kestävän paremmin venytystä kuin kalvojen jotka koostuivat pelkästään Al2O3:sta tai TMA+EG:stä. Lisäksi venytetty nanolaminaatti esti paremmin hapen läpäisevyyttä kuin oksidista tai hybridistä koostuneet venytetyt kalvot. fi
dc.format.extent 59 + app. 95
dc.format.mimetype application/pdf en
dc.language.iso en en
dc.publisher Aalto University en
dc.publisher Aalto-yliopisto fi
dc.relation.ispartofseries Aalto University publication series DOCTORAL DISSERTATIONS en
dc.relation.ispartofseries 201/2014
dc.relation.haspart [Publication 1]: P. Sunberg and M. Karppinen, Organic and inorganic-organic thin film structures by molecular layer deposition: A review, Beilstein Journal of Nanotechnology 5 1104-1136 (2014). DOI: 10.3762/bjnano.5.123
dc.relation.haspart [Publication 2]: A. Sood, P. Sundberg, J. Malm, and M. Karppinen, Layer-by-layer deposition of Ti-4,4’-oxydianiline hybrid thin films, Applied Surface Science 257 6435-6439 (2011). DOI: 10.1016/j.apsusc.2011.02.022
dc.relation.haspart [Publication 3]: A. Sood, P. Sundberg, and M. Karppinen, ALD/MLD of novel layer-engineered Zn-based inorganic-organic hybrid thin films using heterobifunctional 4-aminophenol as an organic precursor, Dalton Transactions 42 3869-3875 (2013). DOI: 10.1039/C2DT32630B
dc.relation.haspart [Publication 4]: P. Sundberg and M. Karppinen, Organic-inorganic thin films from TiCl4 and 4-aminophenol precursors: A model case of ADL/MLD hybrid-material growth?, European Journal of Inorganic Chemistry 6 (2014) 968-974. DOI: 10.1002/ejic.201301560
dc.relation.haspart [Publication 5]: P. Sundberg, A. Sood, X. Liu, L.-S. Johansson, and M. Karppinen, Atomic/molecular layer deposited thin-film alloys of Ti-4,4’-oxyaniline hybrid-TiO2 with tunable properties. Dalton Transactions 41 10731-10739. DOI: 10.1039/c2dt31026k
dc.relation.haspart [Publication 6]: P. Sundberg, A. Sood, X. Liu, and M. Karppinen, Mixing ALD/MLD-grown ZnO and Zn-4-aminophenol layers into various thin-film structures, Dalton Transactions 42 15043-15052 (2013). DOI: 10.1039/c3dt51578h
dc.relation.haspart [Publication 7]: M. Vähä-Nissi, P. Sundberg, E. Kauppi, T. Hirvikorpi, J. Sievänen, A. Sood, M. Karppinen, and A. Harlin, Barrier properties of Al2O3 and alucone coatings and nanolaminates on flexible biopolymer films, Thin Solid Films 520 6780-6785 (2012). DOI: 10.1016/j.tsf.2012.07.025
dc.subject.other Chemistry en
dc.title Atomic/molecular layer deposition of hybrid inorganic-organic thin films en
dc.title Epäorgaanis-orgaanisten hybridiohutkalvojen valmistus atomi- ja molekyylikerroskasvatuksella fi
dc.type G5 Artikkeliväitöskirja fi
dc.contributor.school Kemian tekniikan korkeakoulu fi
dc.contributor.school School of Chemical Technology en
dc.contributor.department Kemian laitos fi
dc.contributor.department Department of Chemistry en
dc.subject.keyword inorganic-organic hybrid en
dc.subject.keyword atomic layer deposition en
dc.subject.keyword molecular layer deposition en
dc.subject.keyword epäorgaaninen-orgaaninen hybridi fi
dc.subject.keyword atomikerroskasvatus fi
dc.identifier.urn URN:ISBN:978-952-60-5998-3
dc.type.dcmitype text en
dc.type.ontasot Doctoral dissertation (article-based) en
dc.type.ontasot Väitöskirja (artikkeli) fi
dc.contributor.supervisor Karppinen, Maarit, Prof., Aalto University, Department of Chemistry, Finland
dc.opn Knez, Mato, Prof., CIC NanoGUNE, Spain
dc.contributor.lab Inorganic Chemistry en
dc.rev Puurunen, Riikka, D. Sc. (Tech), VTT Technical Research Centre of Finland, Finland
dc.rev Nilsen, Ola, Associate Prof., University of Oslo, Norway
dc.date.defence 2014-12-12


Files in this item

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record

Search archive


Advanced Search

article-iconSubmit a publication

Browse

My Account