Deposition of tin dioxide thin films by atomic layer epitaxy



Title:	Deposition of tin dioxide thin films by atomic layer epitaxy Tinadioksidiohutkalvojen valmistus atomikerrosepitaksialla
Author(s):	Viirola, Heli
Date:	1994
Language:	en
Pages:	iv + 75 s. + liitt.
Department:	Prosessi- ja materiaalitekniikan osasto
Major/Subject:	Epäorgaaninen kemia
Supervising professor(s):	Niinistö, Lauri
	OEVS yes
» Show full item record
Permanent link to this item: http://urn.fi/URN:NBN:fi:aalto-202104144654 Email this Export to RefWorks QR Code Print BibTex Tweet