Title: | Surface Functionalization by Atomic Layer Deposited Binary Oxide Thin Films Pintojen funktionalisointi atomikerroskasvatuksella valmistettujen binääristen oksidiohutkalvojen avulla |
Author(s): | Malm, Jari |
Date: | 2013 |
Language: | en |
Pages: | 41 + app. 37 |
Department: | Kemian laitos Department of Chemistry |
ISBN: | 978-952-60-5104-8 (electronic) 978-952-60-5103-1 (printed) |
Series: | Aalto University publication series DOCTORAL DISSERTATIONS, 57/2013 |
ISSN: | 1799-4942 (electronic) 1799-4934 (printed) 1799-4934 (ISSN-L) |
Supervising professor(s): | Karppinen, Maarit, Academy Professor, Aalto University, Department of Chemistry, Finland |
Subject: | Chemistry |
Keywords: | atomic layer deposition, thin film, funtionalization, wettability, ultraviolet, humidity, zinc oxide, titanium dioxide, tungsten trioxide, atomikerroskasvatus, ohutkalvo, funktionalisointi, kastuvuus, ultravioletti, kosteus, sinkkioksidi, titaanidioksidi, volframitrioksidi |
|
|
Abstract:Nykypäivän uusilla materiaaleilla on mielenkiintoisia ominaisuuksia. Perustan uusien materiaalien ja niiden ominaisuuksien ymmärtämiselle muodostaa monesti nanometri-mittakaavan ilmiöiden hallinta. Tässä väitöskirjassa tutkittiin kolmea alle 100 nanometrin paksuista ohutkalvomateriaalia - Sinkkioksidia (ZnO), titaanidioksidia (TiO2) ja volframi-trioksidia (WO3) - pinnan funktionalisoinnin näkökulmasta. Ohutkalvot valmistettiin atomikerroskasvatus (ALD) –menetelmällä. |
|
Parts:[Publication 1]: R.H.A. Ras, E. Sahramo, J. Malm, J. Raula, and M. Karppinen, Blocking the lateral film growth at the nanoscale in area-selective atomic layer deposition, Journal of the American Chemical Society 130 (2008) 11252-11253.[Publication 2]: J Malm, E. Sahramo, M. Karppinen, and R.H.A. Ras, Photo-controlled wettability switching by conformal coating of nanoscale topographies with ultrathin oxide films, Chemistry of Materials 22 (2010) 3349-3352.[Publication 3]: V. Kekkonen, A. Hakola, T. Kajava, E. Sahramo, J. Malm, M. Karppinen, and R.H.A. Ras, Self-Erasing and rewritable wettability patterns on ZnO thin films, Applied Physics Letters 97 (2010) 044102-1-044102-3.[Publication 4]: J. Malm, E.Sahramo, J. Perälä, T. Sajavaara, and M. Karppinen, Low-temperature atomic layer deposition of ZnO thin films: control of crystallinity and orientation, Thin Solid Films 519 (2011) 5319-5322.[Publication 5]: J.T. Korhonen, P. Hiekkataipale, J. Malm, M. Karppinen, O. Ikkala, and R.H.A. Ras, Inorganic hollow nanotube aerogels by atomic layer deposition onto native nanocellulose templates, ACS Nano 3 (2011) 1967-1974.[Publication 6]: J. Malm, T. Sajavaara, and M. Karppinen, Atomic layer deposition of WO3 thin films using W(CO)6 and O3 precursors, Chemical Vapor Deposition 18 (2012) 245-248. |
|
|
Unless otherwise stated, all rights belong to the author. You may download, display and print this publication for Your own personal use. Commercial use is prohibited.
Page content by: Aalto University Learning Centre | Privacy policy of the service | About this site