Browsing by Author "Iltanen, Kari"

Now showing 1 - 2 of 2

Coupled MEMS resonator networks
(2017) Iltanen, Kari
School of Electrical Engineering | Licentiate thesis
Micromechanical resonance frequencies are in a standard manner a few tens of MHz and can even cover the requency range up to a few GHz. When using high quality material such as quartz of silicon, also internal losses are very low. By physical coupling of resonators into a network, one can realize various mechanical signal processing, filtering or for example neural network type behavior. Since coupling between resonators are realized by some kind of bridge, which can be either rather linear or alternatively intentionally very nonlinear, the overall behavior of the whole network is very complex. Of general interest are effects that originate from multiple inputs and outputs and which could lead to a rather unexpected spectral or transient behavior of the signals, which can be found by computer modelling.
Kohdistetun ionisuihkun ja kryogeenisen reaktiivisen ionisyväetsauksen yhdistelmäprosessin karakterisointi
(2009) Iltanen, Kari
Elektroniikan, tietoliikenteen ja automaation tiedekunta | Master's thesis
Tässä työssä karakterisoitiin kohdistetun ionisuihkun (FIB) ja kryogeenisen reaktiivisen ionisyväetsauksen (DRIE) yhdistelmästä muodostuvaa menetelmää nanoteknologian rakenteiden valmistusta ajatellen. Kyseessä on lupaava, mutta uusi menetelmä, jonka ominaisuuksia ei täysin tunneta. Tekemällä ioni-istutus suoraan FIBillä saadaan prosessia yksinkertaistettua sekä samalla mahdollistetaan monimutkaisten kuvioiden teko. Ioni-istutuksen jälkeen näytteet etsattiin kryogeenisellä ICP-RIE-prosessilla. Vasta karakterisoinnin jälkeen menetelmä voidaan ottaa yleiseen käyttöön. Riittävän voimakkaan ioniseostuksen tiedetään toimivan etsausmaskina. Jotta kyettäisiin ennustamaan ionien leviämää ja tunkeutumisyvyyttä substraatissa, on ymmärrettävä kohdeatomien ja ionien välisiä vuorovaikutuksia, jotka jaetaan elektroni- ja ydinvuorovaikutuksiin. Ioni-istutuksen teoriaan perustuvien simulaattorien sekä ioniseostuksen maskiefektin perusteella on mahdollista ennustaa maskin koon ja käytetyn annoksen funktiona lopullisen kuvion koko. Kokeellisessa osuudessa määritetään aluksi ionisuihkun muoto tietyille ionisuihkun virroille käyttäen reikämatriisia, jossa reikien kokoa ja ioniannosta on vaihdeltu. Säteen muodon ja ionien leviämisen perusteella lasketaan ennuste lopullisen kuvion levenemälle verrattuna alkuperäiseen maskiin. Koska tarkoitus oli mitata kokonaisprosessin maksimiresoluutio tietyille virroille, testikuvioina käytettiin toisesta päästään kapeampia palkkeja ja välejä eri annoksille. Annosmääräkokeissa samaa maskia käytettiin eri annoksille kriittisen seostustason löytämiseksi. Etsatut kuviot mitattiin pyyhkäisyelektronimikroskoopin (SEM) avulla. Jokaiselle mitatuista virroista määritettiin maksimiresoluutio, joita tarkastelemalla tulee vakuuttuneeksi, että menetelmä sopii erinomaisesti hyvin erilaisten nanorakenteiden valmistukseen. Lopullisten rakenteiden koko voi olla alle sadasta nanometristä useisiin mikrometreihin.